閉じる
画像が削除されました

実験から評価まで全自動で「3倍」爆速化!NTTがAI×ロボットで次世代パワー半導体をつくる最新基盤を発表 – DXマガジン

AIとロボットを連携した自律成膜基盤により、NTT株式会社が薄膜成膜と評価のサイクルを約3倍に高速化し、β-Ga₂O₃のスパッタ法では世界初となる単結晶薄膜作製に成功しました。最適条件の探索にとどまら...